IT 之家 12 月 19 日音书，日本先进逻辑半导体制造商 Rapidus 晓谕，其购入的首台 ASML TWINSCAN NXE:3800E 光刻机已于当地时期昨日在其北海谈千岁市 IIM-1 晶圆厂完成请托并开动装置。这亦然日本境内初度引入量产用 EUV 光刻树立。

Rapidus 首席现实官、日本政府代表、北海谈及千岁市场所政府代表、ASML 高管、荷兰驻日本大使等联系东谈主士出席了在北海谈新千岁机场举行的缅念念庆典。

NXE:3800E 是 ASML EXE 系列 0.33 ( Low ) NA EUV 光刻机的最新式号，能得志 Rapidus 首代量产工艺 2nm 的制造需求。该光刻机与 0.55 ( High ) NA EXE 平台分享部分组件，晶圆隐隐量较前款 NXE:3600D 进步 37.5%。

除中枢的 EUV 光刻机外，Rapidus 还将在 IIM-1 晶圆厂装置一系列配套先进半导体制造树立以及全自动材料科罚系统，以已毕 2nmz 制程 GAA（IT 之家备注：全环绕栅极）结构半导体的分娩。

Rapidus 再次证据 IIM-1 晶圆厂将于 2025 年 4 月开动试产，且该晶圆厂悉数半导体制造树立均将经受"单晶圆工艺"皇冠现金体育官网，Rapidus 将在该景色下构建名为 RUMS（快速和调理制造作事）的新式半导体代工景色。